MFLPECVD408-12是一款PECVD系統(tǒng)的管式爐系統(tǒng)。由真空管式爐、射頻電源、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成。 最高溫度可以達到1200度,采用30段程序溫控儀表,K型熱電偶,爐膛為高純氧化鋁陶瓷纖維,此設備可用于生長納米線或用CVD方法制備各種薄膜。
MFLGM-18系列是一款最高1750℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理
CVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng) ,最高溫度可以達到1200度、1400度、1600度、1700度,加熱區(qū)間可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。
MFLGK-17系列是一款最高1650℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理,優(yōu)質的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng),可保證實驗數(shù)據的可靠性;法蘭上有進氣口和出氣口,可通入保護氣體,精密針型閥可調節(jié)進氣流量。
MFLGM系列是一款最高1650℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理,優(yōu)質的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng),可保證實驗數(shù)據的可靠性;法蘭上有進氣口和出氣口,可通入保護氣體,精密針型閥可調節(jié)進氣流量。
此系列是一款最高1100℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理,優(yōu)質的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng),可保證實驗數(shù)據的可靠性;法蘭上有進氣口和出氣口,可通入保護氣體,精密針型閥可調節(jié)進氣流量。
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